Lihat sumber Proses Doping pada Semikonduktor

Doping merupakan proses penting dalam pembuatan semikonduktor yang digunakan dalam berbagai perangkat [[elektronika]]. Proses ini bertujuan untuk meningkatkan konduktivitas listrik dengan menambahkan atom-atom tertentu ke dalam kristal semikonduktor.

== Pengertian Doping ==
[[Doping]] adalah penambahan sedikit unsur [[impuritas]] ke dalam semikonduktor intrinsik, seperti silikon. Doping memungkinkan pengendalian jumlah pembawa muatan bebas, baik elektron maupun hole, dalam bahan semikonduktor.

== Jenis-jenis Doping ==
Terdapat dua jenis doping utama, yaitu doping tipe-N dan tipe-P. Doping tipe-N menggunakan unsur dengan lima elektron valensi, seperti [[fosfor]], untuk menambah elektron. Doping tipe-P menggunakan unsur dengan tiga elektron valensi, seperti [[boron]], untuk menambah hole.

== Dampak Doping pada Sifat Semikonduktor ==
Doping mengubah karakteristik listrik semikonduktor, membuatnya lebih responsif dan cocok digunakan dalam perangkat seperti [[dioda]], [[transistor]], dan [[IC]] (Integrated Circuit).